摘要：本实用新型涉及工控机控制技术，公开了一种用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统，包括上位机和多个下位工控机，上位机和下位工控机之间通过交换机连接；上位机与送料装置相连，控制送料装置是否出料及出料量；下位工控机与推拉舟和气相沉积装置内〒的环境控制仪器相连，控制推拉舟的运动和气相沉积装置内的环境参数。本实用新型采用一台带显示器的工控机作为上位机，通过交换机与多个不带显示器的下位工控机相连接，由上位机向下位工控机传送控制数据，实现对被控制设备的控制Ψ操作，下位工控机将被控制设备的工作状况实时反馈给上位机，由此实现数据▓交互和控制。该控制系统╱结构简单，自动化能力强，操作方便，使用和维护成本低。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人杨海燕;杨浩;李凡;朱丽;高丽颖;李补忠;郑建宇;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层
- 申请号CN201120370676.1
- 申请时间2011年09月29日
- 申∏请公布号CN202272949U
- 申ζ请公布时间2012年06月13日
- 分类号C23C16/52(2006.01)I;
