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                一种高反射率的垂直结构发光二极管芯片→及其制备方法

                  摘要:本发明提供了一种高反射率的垂直结构发光二极管芯片,该芯片为单电极结构,包含分布布拉格反射层一DBR,欧姆接触层,低热阻的散热基板,极大的提高出光效率,改善器件的散热能力;制备方◎法是:首先在衬底上生长外延层,其中外延层包括缓冲层,N型层,多量子阱层以及P型层,P型层图形制作,制作反射层和欧姆接触电极,散热基板的绑定层制作,散热基板与P型层的绑定,蓝宝石衬底的去除,N电极制作,对基板〗进行减薄,蒸镀金属层形成P电极,圆片测试,划片,分选。本发@ 明制作的芯片能够有效增加光输出,改善芯片的散热能力,提供稳定的光输出功率,实现高流明效率的应用。
                • 专利类型发明专利
                • 申请人华灿光电股份有限公司;
                • 发明人黄辉;徐瑾;
                • 地址430223 湖北省武汉市东湖开发区滨湖路8号
                • 申请号CN201010621269.3
                • 申请时间2010年12月31日
                • 申请公布号CN102104233A
                • 申请公〇布时间2011年06月22日
                • 分类号H01S5/183(2006.01)I;H01S5/187(2006.01)I;H01S5/34(2006.01)I;H01S5/024(2006.01)I;