摘要：本实用新型公开了一种用于实现原子层沉积工艺的设备，涉及原子层沉积技术领域，包括：反应模块，所述反应模块进一步包括：反应腔室、加热单元、预热腔室、预热单元、前驱』物进料单元、抽气单元及控制单元；预热单元，用于对预热腔室中的ξ 基板进行预热；加热单元，用于对反应腔室及反应腔室中的基板进行加热；前驱物进料单元，用于为反应腔室内的基板提供气态的前驱物；抽气单元，用于对反应腔室进行抽气，以保证反应腔室内的基板进行反应之前，反应腔室处于∞真空状态。本实用新型通过设置预热单元来缩短反应时间，提高了反应效率，提高了原子层沉积设备的生产效率，并进一步通过多个反应腔室共同使用部分部件，使得设备结构简单、占地面积较小。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人李春雷;克雷格·伯考;盛金龙;赵星梅;常青;
- 地址100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
- 申请号CN201220174020.7
- 申请时间2012年04月20日
- 申请Ψ公布号CN202610319U
- 申请公布时间2012年12月19日
- 分类号C23C16/44(2006.01)I;
