摘要：一种用于半导体热处理设备的温度等效控制方法，包括根据四种控温模式在稳定状态下的标准阈值，判断系统在预定时间内是否稳定；若稳定，在采样周期中连续采样四种控温热电偶测量值并将所得到的测量值分别计算平均值，得到采样周期中各控温模式下的稳态值；并根据稳态差值，计算得到该采样周期的Profiling校准表、Offset校准表、Profiling?Result1校准表和Profiling?Result2校准表；若热电偶发生故障，以Wafer?TC测量温度为基准，通过各校准表，发出等效控制指令；温度控制单元切换到Inner?TC、Outer?TC、OverTempTC或几者的组合控温模式下进行等效控温。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人徐冬;王艾;张乾;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN201410058329.3
- 申请时间2014年02月20日
- 申请公布号CN103792971A
- 申请公布时间2014年05月14日
- 分类号G05D23/22(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;
