摘要：本实用新型涉及半导体工艺设备技术领域，尤其涉及一种进气分配装置。该进气分配装置包括具有导热功能的集成块和用于为集成块加热的加热元件，集成块内设有多个流道，加热元件设置于集成块中，流道与气源端连接，且还与腔室连接。本实用新型的进气分配装置通过加热元件加热集成块，使得流道内通入的气体得到均匀加热，从而实现向化学气相沉积反应腔室内进气时，多路气体预热的功能，且控制流道之间的连接角度，以保证气体进入腔室的阻力减小，从而保证气体进入腔室的流速，避免影响设备生产效率。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人兰云峰;任鑫;刘东;
- 地址100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
- 申请号CN201320884748.3
- 申请时间2013年12月30日
- 申请公布号CN203866382U
- 申请公布时间2014年10月08日
- 分类号C23C16/455(2006.01)I;C30B25/14(2006.01)I;
