摘要：本发明公开了一种化学【气相沉积固态前驱体连续供给系统，由真空室、真空机组、化学尾气吸附器、化学尾气处理器组成；真空隔离室位于真空室的上部,坩埚与发热体嵌入在真空室内,真空室外壁有进气口与可控固态前驱体挥发装置相连通，真空室下端有抽真空口与化学尾气吸附器连通,化学尾气吸附器通过真空机组和化学尾气处理器连通。该系统可实现固态前驱体的持续供给，通过伺服机构调整装料在炉中的位置达到精确控制固态◎前驱体挥发温度，进而精确控制前驱体流量；供给系统】结构简单，易与常用的化学气相沉积设备∏兼容；有效地提高了固态前驱体在化学气相沉积◥过程中的可控挥发性、连续性和均一◣性，保证实现难熔金属碳化物涂层或基体的沉积。
- 专利类型发明专利
- 申请人西北工业大学;
- 发明人成来飞;王一光;张立同;刘小瀛;涂建勇;朱艳;
- 地址710072 陕西省西安市友谊西路127号646信箱
- 申请号CN201310000063.2
- 申请时间2013年01月04日
- 申请公布号CN103122457A
- 申请№公布时间2013年05月29日
- 分类号C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;
