摘要：本发明公开了一种多元物质原子层沉积膜制备方法和装置，所述方法，即使基片相对于原子层沉积反应腔直线运动，依次通过其内用于完成不同原子层沉积的原↑子层沉积系统，基片通过每个原子层沉积系统时：调整基片温度为相应原〓子层沉积反应最适温度。所述装置，包括原子层沉积反应腔、基片承载台、运动平台和温度控制装置；原子层沉积反应腔依次设置有多个原子层沉积系统；基片承载台，设置在原子层沉积反应腔下方；运动平台，与基片承载台连接，带动基♀片承载台运动；温度控制装置，设置Ψ在基片承载台下方。所述方法能高效快速的制备多元物质原子层沉积膜，所述装置，能方便的通过现有原子层沉【积系统组装，兼容性强，功耗低，沉积效率高。
- 专利类型发明专利
- 申请人华中╱科技大学;
- 发明人陈蓉;褚波;何文杰;高玉乐;单斌;文艳伟;
- 地址430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 申请号CN201310636805.0
- 申请时间2013年12月02日
- 申请公布号CN103668120B
- 申请公☆布时间2016年04月13日
- 分类号C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;
