摘要：本实用新型涉及半导体清洗工艺技术领域，具体涉及一种防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统。该防止液体飞溅的清洗装置，包括上壳和下壳，上壳可相对下壳上下运动，上壳包括上壳内壁和上壳外壁，上壳内壁和上壳外壁之间形成中空腔，上壳内壁上设有多个进液孔，进液孔与中空腔相通。本实用新型提供的防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统，通过在上壳上加设进液孔和中空腔，可实现在被清洗物的高速旋转过程中，化学试①剂和/或清洗下来的颗粒通过进液孔进入中空腔内并通→过排液孔排出，获得被清洗物的♀最佳的清洁效果；并且清洗装置和清洗系统的结构简单易清洗，工※艺易实现，废液还便于收集。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人刘效岩;吴仪;冯晓敏;
- 地址100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
- 申请号CN201220640683.3
- 申请时间2012年11月28日
- 申请公布号CN203002672U
- 申请公布时间2013年06月19日
- 分类号B08B3/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;
