摘要：本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种类金刚石碳膜沉积装置，真空←室的上盖与真空室的室底相对，真空室的侧壁连接上盖和室底，以形成一腔室；侧壁上开设有一开口；门体与真空室连接，用于盖〒设于开口；电场平衡机构可拆卸地连接ξ在开口处的侧壁上，用于补全开口，电场平衡机构呈板状，且，电场平衡机构的尺寸大于等于开口的尺寸；阳极靶和阴极靶设置在真空室的内部，且，阳极靶与阴极靶相对设置，阴极靶位于真空室的室底与阳极靶之间；驱动机构穿过室底与阴极靶相连；抽真空装置与▲真空室连通；充气引入座设置在室底。本申请▃通过在真空室侧壁上的开口处增设电场平衡机构，从而能够保证真空室内的电场平衡。
- 专利类型实用新型
- 申请人成都西沃克真空科技有限公司;
- 发明人向勇;傅绍英;徐子明;杨小军;闫宗楷;
- 地址610200 四川省成都市双流县蛟龙工业港（双流园区）东海路六ξ 段680号
- 申请号CN201620266888.8
- 申请时间2016年03月31日
- 申请公布号CN205529025U
- 申请公布时间2016年08月31日
- 分类号C23C16/26(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;
