摘要：本实用◤新型涉及半导体集成电路器件技术领域，公开了一种硅片清洗装置包括：喷液管、喷气管、驱动装置及旋转体；待清洗的硅片固定设置于所述旋转体上，所述驱动装置驱动所述旋转体沿其轴向转动，所述喷液管的一端设置有喷液口，所述喷液口对应于所述旋转体设置，所述驱动装置◎驱动所述喷液管沿所述旋转体的轴♀向转动，所述喷气管的一端对应于所述喷液口设置有第一出气孔。本实用新型提供的硅片清洗装置对应喷液口引入保护气体，使药液在工艺过程中尽可能少的接触空气，提升了清洗效果。具有结构简单及稳定性强广的≡优点。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人赵曾男;李伟;刘效岩;
- 地址100015 北京市朝阳区酒仙△桥东路1号M2楼2层
- 申请号CN201420870668.7
- 申请时间2014年12月31日
- 申请公布号CN204523685U
- 申请公●布时间2015年08月05日
- 分类号B08B7/04(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B5/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
