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                教育装★备采购网首页 > 知识产权 > 专利 > CN203265197U
                
            
                
                
                
                    
                
                        

                        
                        
                    
                
                
                
            
                
        
                
        
                
            
                
                
                一种自清洗腔体
                
                
                
                
                
                    
                　　摘要：本实用新型涉及硅片清洗领ζ域，尤其涉及一种自清洗腔体，其包括壳体、喷水嘴和排ζ　液口。其中，喷水嘴安装在壳体外部，排液口在●壳体底部。喷水嘴有上下两排，其上下位置面对面正对。进液软管的〓一端在喷水嘴内，没有伸入喷水嘴的部分安装有调压阀，调压阀之前有至少一个手阀或气动阀，壳体上部有排气管。本实用新型通过调压阀控制进液口的流量，来达到不同的清洁效果；壳体上下侧均设置喷嘴，可以实现均匀清洗；增加排气孔，排出污染空气，减少腔体的污染程度，提高硅片的清洗效率，降◆低自清洗频率；增加排液口，清洗完成后的废液可以直接通过排液口排出。最终实现腔体的不拆卸清洗。
                
                    
                    
                  
                        
                • 专利类型实用新型
                  • 
                        
                • 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
                  • 
                        
                • 发明人张享倩;王波雷;姬丹丹;李伟;王浩;
                  • 
                        
                • 地址100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
                  • 
                        
                • 申请号CN201320150997.X
                  • 
                        
                • 申请时间2013年03月29日
                  • 
                        
                • 申请公布号CN203265197U
                  • 
                        
                • 申请公布时间2013年11月06日
                  • 
                        
                • 分类号B08B13/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;
                  •