摘要：本实用新型公开了一种单片清洗设备中的硅片夹持装置，涉及硅片清洗设备技术领域，包括：夹持装置主体(1)、以及用于固定和支撑硅片的硅片固定凸台(2)，所述■夹持装置主体(1)上、在所述硅片固定凸台(2)上方的位置设有至少一个工艺压差加速孔(3)，所述工艺压差加速孔(3)用于在所述硅片固定凸台(2)夹持↑硅片处产生压差。本实用新型利用伯努利效应，在硅片夹持装置上设置工艺压差加速孔，使得工艺压差加速孔靠近卡盘♂旋转中心侧与远离中心侧的位置∏之间产生压力差，使工艺压差加速孔从里向外产生吹气效果，能够有效的去除硅片夹持装置与硅片被夹持位置↙死区处的颗粒，改善对硅片的清洗效果。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人王波雷;吴仪;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层
- 申请号CN201120457925.0
- 申请时间2011年11月17日
- 申请公布号CN202363439U
- 申㊣ 请公布时间2012年08月01日
- 分类号H01L21/683(2006.01)I;
