老快三

  • <tr id='81daAI'><strong id='81daAI'></strong><small id='81daAI'></small><button id='81daAI'></button><li id='81daAI'><noscript id='81daAI'><big id='81daAI'></big><dt id='81daAI'></dt></noscript></li></tr><ol id='81daAI'><option id='81daAI'><table id='81daAI'><blockquote id='81daAI'><tbody id='81daAI'></tbody></blockquote></table></option></ol><u id='81daAI'></u><kbd id='81daAI'><kbd id='81daAI'></kbd></kbd>

    <code id='81daAI'><strong id='81daAI'></strong></code>

    <fieldset id='81daAI'></fieldset>
          <span id='81daAI'></span>

              <ins id='81daAI'></ins>
              <acronym id='81daAI'><em id='81daAI'></em><td id='81daAI'><div id='81daAI'></div></td></acronym><address id='81daAI'><big id='81daAI'><big id='81daAI'></big><legend id='81daAI'></legend></big></address>

              <i id='81daAI'><div id='81daAI'><ins id='81daAI'></ins></div></i>
              <i id='81daAI'></i>
            1. <dl id='81daAI'></dl>
              1. <blockquote id='81daAI'><q id='81daAI'><noscript id='81daAI'></noscript><dt id='81daAI'></dt></q></blockquote><noframes id='81daAI'><i id='81daAI'></i>
              2. 首页
              3. 装备资讯
              4. 热点专题
              5. 人物访谈
              6. 政府采购
              7. 产品库
              8. 求购库
              9. 企业库
              10. 品牌排行
              11. 院校库
              12. 案例·技术
              13. 会展信息
              14. 教育装备采购网首页 > 知识产权 > 专利 > CN103972162B

                一种无铜籽晶互连用碳化钼掺杂钌基合金扩散阻挡层制备工艺

                  摘要:本发明公开了一种碳化钼掺杂钌基合金(RuMoC)扩散阻挡层制备工艺,它涉及超深亚微米集成电路后端互连结构中铜(Cu)与氧化硅基绝缘介质(SiOC:H)之间一种新型扩散阻挡层的制备工艺。本发明沉积的RuMoC?(5?nm)阻挡层热●稳定温度可达600℃以上,能有效地抑制铜原子朝氧化硅基介质体内扩散。采用该工艺制∮备的RuMoC?(5?nm)扩散阻挡层能有效降低互连膜系电阻率,降低互连电路的阻容耦合(RC)延迟效应,提高半导体器件的运行速度和稳定性。
                • 专利类型发明专利
                • 申请人四川大学;
                • 发明人刘波;张彦坡;林黎蔚;廖小东;
                • 地址610065 四川省成都市武侯区一环路南一段24号
                • 申请号CN201410201533.6
                • 申请时间2014年05月13日
                • 申请公布号CN103972162B
                • 申请公▲布时间2016年09月07日
                • 分类号H01L21/768(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;