摘要:本发明公开了一种碳化钼掺杂钌基合金(RuMoC)扩散阻挡层制备工艺,它涉及超深亚微米集成电路后端互连结构中铜(Cu)与氧化硅基绝缘介质(SiOC:H)之间一种新型扩散阻挡层的制备工艺。本发明沉积的RuMoC?(5?nm)阻挡层热●稳定温度可达600℃以上,能有效地抑制铜原子朝氧化硅基介质体内扩散。采用该工艺制∮备的RuMoC?(5?nm)扩散阻挡层能有效降低互连膜系电阻率,降低互连电路的阻容耦合(RC)延迟效应,提高半导体器件的运行速度和稳定性。
- 专利类型发明专利
- 申请人四川大学;
- 发明人刘波;张彦坡;林黎蔚;廖小东;
- 地址610065 四川省成都市武侯区一环路南一段24号
- 申请号CN201410201533.6
- 申请时间2014年05月13日
- 申请公布号CN103972162B
- 申请公▲布时间2016年09月07日
- 分类号H01L21/768(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;