摘要：本发明实施♀例公开了一种显示装置接触孔形成方法，包括：提供基板，基板上依次形成有第一金属层、绝缘层、第二金属层、钝化层和图案化光刻胶层；执行第一蚀刻步骤去除第一金属层上方对应的全部厚度的钝化层以及部分厚度的绝缘层，同时⌒去除第二金属层上方对应的部分厚度的半色调光刻胶；执行灰化步骤，完全去除第二金属层☆上方对应的半色调光刻胶；执行第二蚀刻步骤，去除第一金属层上方深孔内保留的绝缘层，曝露出第一金属层表面，同时去ω 除第二金属层上方浅孔内对应的钝化层，曝露出第二金属层表面。该方案可以去除光刻胶残膜※均一性不好控制的缺陷，优化了蚀刻工艺，控制蚀刻速度】的工艺简单，可以最大程度的避免金属配线的过度蚀刻。
- 专利类型发明专利
- 申请人上海中航光电子有限公司;
- 发明人张建强;张容;李延辉;康亮;
- 地址201108 上海市闵行区金都路3669号6幢102室
- 申请号CN201110063933.1
- 申请时间2011年03月16日
- 申∑ 请公布号CN102683266B
- 申请公布时间2015年03月18日
- 分类号H01L21/768(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;
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