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                一种发光二「极管外延片及其制备方法

                  摘要:本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法,属于二极管技术领域。所述外延片包括衬底层、以及依次覆盖在衬底层上的缓冲层、非掺杂的GaN层、N型接触层、N型扩展层、多量子阱层和P型层;N型扩展层是由若干第一子层和若干第二子层交替形成的超晶格结构;第←一子层采用N型掺杂的AlxGa1-xN作为生长材料,0
                • 专利类型发明专利
                • 申请人华灿光电股份有限公司;
                • 发明人万林;魏世祯;
                • 地址430223 湖北【省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号
                • 申请号CN201210540920.3
                • 申请时间2012年12月12日
                • 申请公布号CN103035805A
                • 申↓请公布时间2013年04月10日
                • 分类号H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;