摘要：本发明涉及等离子体增强化学气相沉积设备，公开了一种电极√引入装置，其包括两个并列设置的电极支架；每个电极支架的一端与一个炉门电极相连，另一端为金属触头，与石墨舟上的电极块相连；还包括穿过炉门的连接杆，其伸入炉门内侧的一端连接石♂墨舟支撑杆，所述石墨舟支撑杆为至少两根并列的碳化硅棒。本发明中，电极引入装置采用搭接形式，依托电极支架将金▓属触头直接和炉门电极连接起来，石墨舟上的两个石墨垫块充当两电极块，每个金属触头上，与电←极块上凹槽相接触的位置设置有凸起，接触良好，自动化程度高；碳化硅双棒耐╲温在1000多度，不易变形，提高电极接触的稳定性；机械机构∞简单，成本低，装配难度降低。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人郑建宇;宋晓彬;王广明;桂晓波;杨光;唐亚非;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层
- 申请号CN201110261064.3
- 申请时间2011年09月05日
- 申※请公布号CN102321877B
- 申请公布时间2013年08月07日
- 分类号C23C16/50(2006.01)I;
