摘要：本实用新型提供了一∑ 种低温药液清洗装置，涉及半导体晶片工艺技◢术领域，本实用新型首先通过气体冷却装置对常温〓气体进行降温冷却，然后将冷却后的气体输送ζ至药液冷却装置内，使常温清洗药液和低温冷却气体之间发生热量交换，从而降低清洗药液温度，最后将冷却后的药液喷射在晶片表面，提高清洗的均匀性，同时减少衬底材料的损失。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人滕宇;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN201520313582.9
- 申请时间2015年05月15日
- 申请公布号CN204620539U
- 申请公布时▆间2015年09月09日
- 分类号B08B3/08(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
