摘要：本实用新型涉及半导体集成电路器件清洁工艺技术领域，特别涉及一种清洁晶片装置。该清洁装置包括压电晶体振子、用于安装压电晶体振子的腔室，以及与压电晶体振子固定连接的换能器，换能器表面具有若干个凸起的柱体，柱体间具有若干个微孔，微孔贯通至换能器的底部。通过本实用新型提供的具有贯通微孔的换能器，利用兆声波物理传输原理产生与晶片特征尺寸侧壁平行的作用力，对特征尺寸不会产生弯矩的效应，最大程〓度的减小和消除对晶片特征尺寸结构的破坏，从而提高了对残留物的化学←清除效率。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人王锐廷;吴仪;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层
- 申请号CN201020597114.6
- 申请时间2010年11月05日
- 申请公╲布号CN201862594U
- 申请公布时间2011年06月15日
- 分类号B08B3/12(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;
