摘要：本发明涉及硅片湿法清洗领域，尤其涉及一种排风装置。该排风装▽置包括底腔、兆声波装置盛液槽、兆声波装置盛液槽固定支架、夹层㊣及排风调整单元，所述底腔固定于所述夹层顶部，所◥述兆声波装置盛液槽通过兆声波装置盛液槽固定支架固定于所述夹层上，夹层将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔↑开，所述排风调整单元与夹层连接，用于调整工艺∩腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量。这样排风调整☆单元可通过有效的调整排风量以保证工艺腔室内部流场的均匀性；通过夹层能将工艺腔室的工艺区和电气区完全隔离开来，以防←止工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成损害。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人王波雷;王锐廷;张豹;姬丹丹;
- 地址100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
- 申请号CN201210488684.5
- 申请时间2012年11月26日
- 申请公布♂号CN102989736B
- 申请公布时间2015年03月18日
- 分类号B08B15/00(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;
