摘要：本发明公开了一种半导体工艺配方生成方法及系统，该◎方法包括步骤：S1.根据不同腔室的特征，对工艺配方进行动态配置，生成配置文〗件，并进行配方参数的约束设置；S2.根据配置文件以及配方参数的约束设置，生成工艺配方文件。本发明的方法及系统利用半导体工艺过程中某些流程的相同相似性，可□实现快速生成以及检验配方。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人郭训容;杨晓;吴仪;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层
- 申请号CN201110106674.6
- 申请时间2011年04月27日
- 申请公◥布号CN102243670A
- 申请ぷ公布时间2011年11月16日
- 分类号G06F17/50(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;
