摘要：本发明公开了一№种用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置，设有步进电机，石英舟的下方设有SiC转盘，在该SiC盘的底部中央设有固定轴，固定轴的下端设有带轮，该带轮通过传动带与步进电机传动连接；在固定轴的下部设有舟旋转定位装置，上部设有密封腔，密封腔设有进出气管，SiC转盘的下面设有带水冷却腔炉门，炉门底部◥固定设有轴罩，在轴罩的底端与SiC转盘的固定轴之间设有密封环；在炉门下面设有数个缓冲器，在炉门四周下面还设有密封挡板。本发明适用于用◤于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟的旋转装置，结构完善，控制灵活，水平、垂直位置控制精确。从而使硅片受热均匀，提高了硅片膜厚均匀性。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人钟华;赵星梅;董金卫;王喆;赛义德·赛迪;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN200810240137.9
- 申请时间2008年12月17日
- 申请公布号CN101813410B
- 申请公布时间2012年11月14日
- 分类号H01L21/324(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
