摘要：一种辊到辊CVD系统，包括至少两个辊，这些辊在CVD处理期间将幅带运送通过淀积腔室。淀积腔室限定通道，幅带在由至少两个辊运送的同时通过该通道。淀积腔室包括多个处理腔室，这些处理腔室由屏障隔离，这些屏障保持在多个处理腔室中的每一个腔室中的分立的工艺化学性质。多个处理腔室中的每一个腔室包括气体输入端口和气体排出端口，以及多个CVD气体源。多个CVD气体源的至少两个联接到多个处理腔室中的每一个腔室的气体输入端口上。
- 专利类型PCT发明
- 申请人维易科精密仪器国〖际贸易(上海)有限公司;
- 发明人E·A·阿莫尔;W·E·奎恩;P·斯费尔拉佐;
- 地址美国纽约
- 申请号CN201080024863.2
- 申请时间2010年06月03日
- 申请公布号CN102460648A
- 申⌒ 请公布时间2012年05月16日
- 分类号H01L21/205(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;
