摘要：一种幅材基板原子层沉积系统，其包括：至少一个辊，所述至少一个辊将幅材基板的表面传输经过多个处理室。所述多个处理室包括第一前体反应室，所述第一前体反应室将幅材基板的表面暴露于第一前体气体的期望的分压力下，由此在幅材基板的表面上形成第一层。吹扫室利用吹扫气体吹扫幅材基板的表面。真空室从幅材基板的表面除去气体。第二前体反应室将幅材基板的表面暴露¤于第二前体气体的期望的分压力下，由此在幅材基板的表面上形成第二层。
- 专利类型PCT发明
- 申请人维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司;
- 发明人P·斯费尔拉佐;
- 地址美国纽约
- 申请号CN201080015287.5
- 申请时间2010年03月16日
- 申请公布号CN102365712A
- 申请公布时间2012年02月29日
- 分类号H01L21/205(2006.01)I;
