摘要：本发明涉及用于刻蚀电子产品上银浆的装置及其方法，高频率短脉冲激光器的输出端布置有光闸，光闸的输出端设置有扩束镜，扩束镜的输出端依次布置有1/2波片和格兰棱镜，格兰棱镜的输出端布置有45度全反射镜，45度全反射镜的输出端依次布置有振镜和扫描场镜，扫描场镜正对于四轴吸附平台，四轴吸附平台上安装有同轴吹吸气集尘系统，四轴吸附平台对角位置分别安装有CCD对位观察系统。采用高频率红外脉冲激光器作为激光源，通过对角→线CCD抓靶加工材料的靶标位置，确定加工图形与平台上的样品位置一一对应，对不同触摸屏产品▲中不可视区域银浆或者铜薄膜或钼铝钼层进行蚀刻，使不可视区域的薄膜材料在高频率短脉⌒ 冲红外激光器作用下气化而达到蚀除目的。
- 专利类型发明专利
- 申请人苏州德龙激光有限公司;江阴德力激光设备有〖限公司;
- 发明人赵裕兴;狄建科;张伟;
- 地址215021 江苏省苏州市工业园区苏虹中路77号
- 申请号CN201110128579.6
- 申请时间2011年05月18日
- 申请公布ㄨ号CN102205468A
- 申请公布时间2011年10月05日
- 分类号B23K26/40(2006.01)I;B23K26/06(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;
