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                TEM用氮化硅薄膜窗

                TEM用氮化硅薄膜窗
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                名称:TEM用氮化硅薄膜窗2
                编号:TEM
                产品详情:
                TEM用氮化硅薄膜窗



                氮化硅薄膜窗特点
                ? 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜:50nm厚的薄膜具有最大的视野范围;8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用
                ? 氮化硅支撑膜:低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜,良好的平整度、绝缘性和疏水性
                ? 良好的化学稳定性:图像分辨率和机械强度达到理想的平衡;
                ? 均匀性:减少了』不同区域的不均匀性;
                ? TEM断面成像应用的特殊窗口:适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口,倾斜度最大可※达75°
                ? 多窗口系列:2窗口,0.1x1.5mm;3x3系列,0.1x0.1mm
                ? 可应用于多种显微技术:良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。
                ? 薄膜和基∏底耐酸,不会被溶解:可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本
                ? 可应用于高Ψ 温试验环境: >1000° C
                ? 可提供更对精确的分析,如样品中的◤碳含量,减少污染:可用于无碳环境中的TEM成像和分析
                ? 容易清洗:机械稳↓定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量;
                ? 良好的平整度:良好的纳米沉积基底和薄膜,无背景结构适合于SEM成像
                ? 超净加工,防止支撑膜上残留微粒:100级的超净间内包装
                ? 框架厚度:200 and 50μm :200μm是标准的TEM支撑架;50μm是特殊的TEM支撑架
                ? 标准框架直径为3mm
                ? 同一批次的氮化◇硅薄膜窗具有相同的特性

                氮化硅薄膜窗↑规格

                单窗口系列
                窗口类型 薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 框架厚度 报价/USD
                20nm 500x500μm Φ3mm 100μm ¥120.00
                20/50nm 500x500μm Φ3mm 200μm ¥120.00/¥90.00
                50nm 1000x1000μm Φ3mm 200μm ¥90.00
                50nm 100x100μm Φ3mm 200μm ¥90.00
                15nm 0.25x0.25mm Φ3mm 200μm ¥245.00
                50nm 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm
                0.75x0.75mm
                1.0x1.0mm Φ3mm 200μm ¥145.00
                ¥165.00
                ¥168.00
                ¥168.00
                200nm 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm
                0.75x0.75mm
                1.0x1.0mm Φ3mm 200μm ¥115.00
                ¥125.00
                ¥125.00
                ¥130.00
                15/50/200nm 0.25x0.25mm Φ3mm 50μm ¥285.00
                50nm
                /200nm 0.5x1.5mm Φ3mm 50μm ¥168.00
                ¥135.00


                多窗口系列

                窗口类型 薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 框架厚度 报价/USD
                50nm 2x1阵列,100X1500μm Φ3mm 200μm ¥90.00
                15nm
                /50nm
                /200nm 2x1阵列,100X1500μm Φ3mm 200μm ¥245.00
                ¥145.00
                ¥115.00
                50nm 2x1阵列,100X1500μm Φ3mm 50μm ¥285.00
                10nm
                /20nm 3x3阵列,8个窗口100X100μm,
                1个窗口100X350μm Φ3mm 100μm ¥150.00
                ¥120.00
                10nm 3x3阵列,8个窗口250X250μm,
                1个窗口250X500μm Φ3mm 100μm ¥150.00
                20nm 3x3阵列,8个窗口100X100μm,
                1个窗口100X350μm Φ3mm 200μm ¥120.00
                50nm 3x3阵列,8个窗口100X100μm,
                1个窗口100X350μm Φ3mm 100μm $9.00
                15nm
                /50nm
                /200nm 3x3阵列,窗口100X100μm, Φ3mm 200μm ¥245.00
                ¥145.00
                ¥115.00
                50nm 3x3阵列,窗口100X100μm, Φ3mm 50μm ¥285.00
                8nm 单窗口,窗口大小:0.6×0.6mm;25个网格,氮化硅支撑膜200nm;网格上的氮化硅薄膜8nm;网格大小:75μm ,网格间距:25μm; Φ3mm 200μm ¥385.00


                应用简介:

                1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。
                2、大※窗口尺寸,适合TEM大角度转动观察。
                3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。
                4、背景氮化硅无定形、无特征。
                5、耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,(薄膜直接沉积在窗口上)。
                6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后,窗口具有很好的亲水性。
                7、耐高温、惰性衬底,也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。
                8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。

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