现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品。
有意者请联☉系上海昭沅仪器设备有限公司！
规格如下：
外框尺寸 (4种标准规格):
5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或1.5 mm 方形)
7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm)
10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形)
边框厚度： 200μm、381μm、525μm。
Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm
我们也可以为用户定制产品◥（30-500nm），但要100片起订。
本产品为一次性产品，不建议用◤户重复使用，本产品不能进行︼超声清洗，适合化学清洗▓、辉光放电和等离子体清洗。
技术指标：
透光度：
对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜∩有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅★薄膜窗口是用户首选。
真空适用性：
真空适用性数据如下：
薄膜厚度 窗口面积 压力差
≥50 nm ≤1.0 x 1.0 mm 1 atm
≥100 nm ≤1.5 x 1.5 mm 1 atm
≥200 nm ≤2.5 x 2.5 mm 1 atm
表面ζ平整度：
氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影♂响。
温度特性：
氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产ζ 品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米Ψ材料。
化学特性：
氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。
应用简介和优点：
1、 同步辐射X射线（紫外或↙极紫外）透射成像或透射能【谱应用中是不可或缺的样品承载体。
2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导「体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于㊣ 制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。
3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处╲理后，窗口具有很好的亲水性。
4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退∞火效应的原位表征。
5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。
