摘要：本实用新型公开了一种双室磁控溅射电子束镀膜机，包括磁控溅射镀膜系统、电子束镀膜系统、转换系统和总控制柜，所述磁控溅射镀膜系统的控制端、所述电子束镀膜系统的控制端和所述◤转换系统的控制端均与所述总控制柜连接；本实用新型一种双室磁控溅射电子束镀膜机将磁控溅射真空腔体、电子束真空腔体和转换真空腔体连通，使在对镀膜样品进行镀膜时，可以在不破坏真空环境的情况下实现磁控溅射镀膜和电子束镀膜，使多层镀膜的膜层膜间的结合性更好、更牢固、更致密。
- 专利类型实用新型
- 申请人成都中科唯实仪器有限责任公司;
- 发明人何吉刚;马宁;王小军;蒋冰霜;魏琼林;蒙志林;冉从军;
- 地址610041 四川省成都市高新】区科园南一路七号
- 申请号CN201620762959.3
- 申请时间2016年07月19日
- 申请公布号CN205803589U
- 申请公布时间2016年12月14日
- 分类号C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;
