摘要：本实用新型提出一种基质辅助激光解析离子源进样装置，该装置包括样品托盘；密封腔，密封腔内具有第一真空度；真空腔，真空腔内具有高于第一真空度的第二真空度，真空腔与密封腔相连且通过真空腔的前密封板与密封腔隔开；设在密封腔一侧、用于将样品托盘送入密封腔内且从密ω封腔内输送到真空腔内的第一级进样组件；设在真空腔内且用于从第一级进样组件接纳样品托盘并将样品托盘输送至真空腔内的检测位置ω 的第二级进样组件；密封门组件，密封门组件可打开和关闭地设∴在真空腔¤的前密封板上；和真空泵，由此，根据本实用新型的进样装置，能够将样品从常压环境平稳地√送入高真空环境内且使样品在进样过程中逐渐适⌒ 应真空度，保证样品的检测◥质量。
- 专利类型实用新型
- 申请人江苏天瑞仪器股份有限公司;
- 发明人蔡克亚;陶占清;周立;
- 地址215300 江苏省苏州市昆▼山市中华园西路1888号天瑞产业园
- 申请号CN201220117195.4
- 申请时间2012年03月26日
- 申〗请公布号CN202649168U
- 申请㊣公布时间2013年01月02日
- 分类号G01N27/64(2006.01)I;
