摘要：本发明公开了一种精确控制浸没式光刻机浸液温度的装置，包括增压泵；初级热交换器，其浸液入口与增压泵出口连通，浸液在其中进行热交换，实现浸液温度的初级调控；次级热交换器，其浸液入口与初级热交换器浸液出口连通，浸液在其中进行再次热交换，实现浸液温度的次级调控；流量伺服阀，其入口与初级热交换器浸液出口连通，与次级热交换器形成并联，用于调节进入次级热交换器的浸液流量。通过协调控制进入初级热交换器和次级热交换器的冷媒流量，并结合流量伺服阀对进入次级热交换器的浸液流量的调节，可实现对浸液温度的两级调控，从而获得温度稳定且精确的浸液以用于浸没式光刻工艺。
- 专利类型发明专利
- 申请人华中科技大学;
- 发明人李小平;纪辉强;石文中;
- 地址430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 申请号CN201410199568.0
- 申请时间2014年05月12日
- 申请公布号CN103969965B
- 申请公布时间2015年11月18日
- 分类号G03F7/20(2006.01)I;G05D23/30(2006.01)I;
