摘要：本发▽明公开一种制备YSZ缓冲层的多通道激光镀膜方法，首先将镍-钨金属基带或哈氏合金带、不锈钢带等金属基带装入镀膜腔，多次缠绕在多通道激光镀膜设备的金属带材传动装置的带辊上，然后将加热器温度升到镀膜温度；打开氧气通道；启动YSZ靶操纵器，开始YSZ激光蒸发靶台的●x-方向和y-方向扫描及旋转运动；打开激光器的光路窗口，开始对YSZ靶台进行预蒸ξ发；开始镀膜；金属基带通过传动装置的辊轴多次缠绕，多次通过加热器，最后关闭相应设ξ 备。本发明采用多通道激光镀膜法来制备YSZ缓冲层，不仅克服了单通道激光镀膜法的镀膜区域小这一缺点，大大提高了镀膜速度，而且充↘分发挥了激光镀膜法的各项优点，制成的YSZ缓冲层具有单一取向，表面质量优越，结晶性高。
- 专利类型发明专利
- 申请人上海超导科技股份有限公司;
- 发明人李贻杰;
- 地址200080 上海市四川北路1717号23楼
- 申请号CN201110201920.6
- 申请时间2011年07月19日
- 申请公布号CN102251219B
- 申请公布时间2013年04月17日
- 分类号C23C14/28(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;H01L39/24(2006.01)I;
