报告简介：
在制备新型生物芯片器件时，通常会涉及到光刻工艺。而在诸多光刻技术中，无掩膜光刻技术卐因其独特的优势和特点，成为当前最为流行高效的一种。与传统掩膜版技术相比，无掩膜曝光技术具有高分辨、高对准精度、更加简易操作等诸多优势，能够轻松实现微米、亚微米级精度的光刻、套刻。配合各类标准微加工工艺，能够方便快捷地实现各类生物芯片器件的制备。在本报告中，将重点介绍无掩膜光刻技术最新前沿进展，结合来自国内外以色列理工，IBM，复旦等顶尖科研单位在国际期刊发表的研究成果，探讨无掩膜光刻技术在生物芯片领域的应用。
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报告时间：
2021年12月15日 14:00（北京时间）
主讲人：
喻博闻 博士
喻博闻博士，毕业于澳大利亚昆士兰大学机械与矿业学院，博士期间研究方向为微纳机电器件中的界面▆问题，以及微纳尺度操纵和加工技术。于2021年4月加入Quantum Design中国子公司表面光谱部门，负责微纳加工相关产品在全国的应用开发、技术支持及市场拓展工作。
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