本设备适用于镀制各种多层光学薄膜和电学膜，是有关工厂、研究所和大专院校进行生产和科研的理想设备。
采用箱式结构，抽气系统后置，便于拆卸和维修。整机表面平整，便于清洁，适合净化间安装。蒸发室全部采△用不锈钢制造，室壁可通冷、热水，可对内壁进行冷却或加热。蒸发室底板有足够的面积布置蒸发源和各№种接头。所有阀门均采用电控，操作极为方便，使用可靠。蒸发室抽气口设置有一光学密封水冷挡板，可使蒸发室的油污染降到极低的程度。本设↑备配备的抽气元件抽速较大，具有抽气时间短，工作真空卐度高，生产周期短等优点。
主要组成部分：
真空蒸镀室▃：不锈钢制造，立式前开门，外壁通冷却水，内衬不锈钢防污板
真空系统：可选扩散泵系统①、涡轮分子泵系统或低温泵系统
蒸发源：有电阻加热蒸发源或电子束蒸发源
工件烘烤：可选碘钨灯加热、电阻丝加◥热或管状加热器；方式有上往下烘烤○或下往上烘烤
工转装置：有上驱动或下驱动机↘构；密封可采用普通或磁流体密封
工件架：可选球面帽形、扇形、行星式、翻转式、平面夹〗具等形式
光学膜厚控制系统：由光路、光源、单色仪、、光学¤膜厚监控仪、比较片机构等组成
晶体振荡膜厚控制系统：晶体↑膜厚监控仪、石英传感器等
充气系统：压力控制、气体质量流量控制
电气控制系统：大板结构、模块设计、进口器件；可靠性高、易操作、易维护
离子辅助镀：可选配国产或进口离子源提∏高成膜特性
