ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（强/弱磁靶）、光纤旋转台（定制）、直流电源、工作气路、抽气系统、循环水系统、膜厚监测系统、真空测量、电控系统及安☆装机台等部分组成。
真空系统：涡轮分子泵，抽速为300L/s 前级机械▅泵：抽速为4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量：采用复合真空计监测真空。
ETD-650M magnetron sputtering instrument
It is an economical and practical pocket magnetron sputtering equipment developed by our company, which is more suitable for the needs of laboratories in various scientific research and educational institutions. The system is mainly composed of sputtering vacuum chamber, permanent magnet magnetron sputtering target (strong / weak magnetic target), fiber optic rotary table (custom), DC power supply, working gas circuit, pumping system, circulating water system, film thickness monitoring system, vacuum measurement, electronic control system and installation machine and so on.
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磁控
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ETD-650MS
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高真空
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溅射气体 |
溅射靶材 |
溅射电流 |
极限真空 |
样品仓尺寸 |
样品台尺寸 |
工作电压 |
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根据实验目→的可添加氩气，氮气等多♀种气体。
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配有直径50mm弱磁靶和直径60的强磁靶。 标配Ψ靶材为金靶，可配银靶，铜靶，铬靶等多种靶≡材 |
电流 为0-500mA |
优于5*10-4Pa
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直径180mm，高200mm
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样品台光纤旋台（可定制）
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230V, 50HZ |
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电子束敏感的样品电子束敏感的样品
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主要包括生物样品， 塑料样品等。S EM 中的电子束具有较高能量， 在与样品◣的相互作用 过程中，它以热 的形式将部分能量 传递给样品。如果 样品是对电子束敏感 的材料，那这种相 互作用会破坏部分 甚至整个样品结构。 这种情况下№，用一种 非电子束敏感材料 制备的表面镀层就 可以起到保护层 的作用，防止此类损伤；
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非导电的样品
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由于样∑品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料增加信噪比，从而获得更好的成像质量。
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新材料
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非导电材料实验电极制作观察导电特性
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