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                ETD-800C蒸发镀膜ぷ仪

                ETD-800C蒸发镀膜仪
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                • ETD-800C蒸发镀膜仪
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                ETD-800C
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                北京 海淀区
                泰斯肯(中国)有限公司
                详细说明

                ETD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。

                配有高位定性的飞跃真空泵

                ETD-800C蒸发镀膜仪

                The ETD-800C type thermal evaporation coating apparatus places the substrate or workpiece on the coating in avacuum chamber and evaporates and vaporates it by heating the coating material to form a film or coating process on the

                surface of the substrate or the workpiece.

                Vacuum pump equipped with high quality

                参数

                配套泵

                蒸发靶材

                蒸发电流

                极限真空

                样品〒仓尺寸

                样品台尺寸

                工作电压

                两升飞跃泵

                碳棒

                最大电流

                100A,工作电流0-80A

                4*10-2mbar

                直径

                160,

                高120mm

                样品台尺寸直径150mm

                220V,

                50HZ

                需要镀膜的样品

                电子束敏感的样品 非导电的↘样品 新材料

                主要包括生物样品,塑料样品等。

                S EM中的电子束具有较高能量,

                在与样品的相互作用过程中,

                它以热的形式将部分能量传递给样品。

                如果样品是对电子束敏感的材料,

                那这种相互作▼用会破坏部分

                甚至整个样品结构。这种情况下,

                用一种非电子←束敏感材料制备

                的表面镀层就可以起到

                保护层的作用,防止此类损伤;

                由于样品不导电,其↓表面带有“电子陷阱”,

                这种表面上的电子积√累被称为“充电”。

                为了消除荷电效应,可在样品表面镀一

                层金属导电层,镀层作为一个导电通道,

                将充电电子从材料表面转移走,

                消除荷电效应。在扫描电镜成像时ㄨ,

                溅射材料增加信噪比,

                从而获得更好的成像质量。

                非导电材料实验电极制△作

                观察导电特性

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