K975X多用途高真∏空蒸镀仪◥↘

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品　　牌：EMITECH

产品型号：03 (K975X)

制造厂商：南京康是福科技实︼业有限公司

所在地区：江苏

详细说明

EMITECH K975X多用途高真空蒸镀仪

K975X涡轮蒸镀仪是一个多用途系统，它具」有灵活性和模块化扩展功能，以适应不同的样品制备。
它可从蒸篮和坩锅进行碳蒸发、金属蒸发并且可选溅射附件。
K975X可应用一系列成熟技术，包∑括镀碳及TEM覆形，碳/金属蒸发、低角度Shadowing和通过使用双源蒸发进行顺序涂层，可选的溅射镀膜附件能适用于各种靶材。
通过使用微处理控制器，更增强了系统的灵活性，用户很容易附加各种可♂选件，但是这些“缺省”都是经过优化操作设ζ　计，使得全自动和手动操作均可实现最佳操作。
独特的抽屉式样＠品装载系统使用户方便放入各种样Ψ品，铰链式顶盖结构很容易达到系统其它区域。
涡轮分子泵安↘装在系统外部，可方便安装及更换，它的前级真空为▓旋转真空泵。整个抽气过程为全自动控制，达到「高真空后进行蒸发。本仪器为台式，可方便地进行使用︻控制，使用←中的疏忽也不易造成损坏。
K975S半导体晶圆蒸镀仪
K975S基于K975X，但是它具有特殊的装载锁定门，可允许放入8英寸（200mm）晶圆镀碳，应用于FIB。

仪器特点 仪器优点

● 全自动抽真空╲系统                            ● 容易操作
● 样品尺寸可达140毫米见方∞或200毫米直径      ● 使用灵活
● 独特的“anti-stick”碳棒蒸发机构            ● 可靠的碳蒸发
● 抽屉式样品装载系统                          ● 方便的样品』装载及卸载
● 可选的蒸镀类型，具有四种蒸发设置            ● 灵※活的操作，可选择碳及金属蒸发源
● 约束的或开放的排气控制                      ● 在排气过程中可防止样品损坏
● 可∏选用各种溅射靶材附件适用于一系列金属      ● 系统灵活≡性强
● 可选膜厚监测》系统                            ● 很容易测量金属或碳沉积膜厚

可选附件
1.溅射附件
溅射电流：0到100mA
沉积速率：0到50nm/分（Au）
标准靶：57mm Au（可选Pt, Pt/Pd, Pd, Cr, Ni, Cu, Ag）
定时：0到4分钟
HT安全互锁装置
2.膜厚监测系统
3.辉光放电单元

技术规格
仪器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H
工作腔室：硼硅酸盐玻璃，带有铰链式顶盖。250mm Dia x 300mm H（样品〓可达直径200 mm即8"）
安全钟罩：聚碳酸酯，维护时工作腔室很容易移开
重量：65Kg
碳枪：高度可调，倾斜0-20^o ，使用直径6.15mm碳棒
涡轮分子泵：100L/Second为标准配置，可选【各种尺寸
真空计范♂围：ATM - 1x10^-7mbar
工作真空达到时◇间：15分钟内
操作真空：10^-5 mbar量级（可选液氮冷阱）
蒸发源（脉冲或可变控制）：四种模式『可选，低电压a.c. V, 5V, 15V,25V @ 25 amps. 7V @100 amps
样品台：0-45^o可倾斜
旋转样品〖台（可选）：直径60mm，倾斜0-45^o，具有15rpm 到 45rpm可变速度控制
Services –Argon（对可选溅〓射附件） - Nominal 4psi.
真空泵：No. 2 泵(2m³/Hr)，complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter
电源：230V 50/60Hz (包含泵最※大电流为8 Amp)；115V 50/60Hz (包含泵最大电流为16 Amp)
注：In Circuits with Current Trips , when using Pulse for 230 v a 16amp minimum for 115 v a 32 amp minimum

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K975X多用途高真空蒸镀仪