产品特点
1 4支Ф3英寸磁控溅射靶。
2 样品台：可旋转、可加热、可升降。
3 溅射方式：为避免微粒物←质落到基片上，采用基片在上、磁控溅射靶在下的结构，即由下向上溅射。
4 工作模式：可以采用单靶独立、多靶轮流或组合共溅工作模式，向心溅射。
5 磁控溅射靶射频（ RF ）、直流 (DC) 兼容。
6 磁控溅射靶面与基片的距离可调。
7 为了保证镀膜的工艺性（预溅射、多层膜、掺杂膜、防止交叉污染和干扰等），每只磁控溅射靶均配备挡板。基片配挡板。
8 磁控溅№射靶头可调角度，为寻找最佳溅射角度提供了手段。
9 基片加热器采用高温加热╳材料。
10 采用了超⌒高真空密封技术，极限真空度5 x 10-10 torr (24 hours pumping following internal bakeout)，恢复工作背景真空时间短，从大气到工作背景真空（7 × 10-4Pa）时间 30～40 分钟（充干燥♀氮气）。
11 超高真空密封
12 系统自动监控和保护功能强，包括缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度■检测与保护、真空系统检测与保护等。
13 计算机控制镀膜系统：溅射镀膜过程采用计算机控制，具有复位功能、确㊣认靶位功能、溅射镀膜时间控制功能、回转控制功能、磁控靶遮挡功能和加热△控温等
设备技术指标
1 、工件盘品牌（ MANTIS ）尺寸（ 8 英寸）。
2 、基片加挡板，电脑控制，基片可加⊙负偏压。
3 、基片架可旋转、可升降，基片架公转速度 ( 20-80rpm 转/分)。
4 、基片＠可加热，加热器〒温度：室温～700℃，可控可调，加热控温精度优于+/-1%。
5 、4支Ф3英寸圆形平面磁控溅射永磁靶品牌（ MANTIS ），水冷，每＠ 个靶带挡板，电脑控制。
6 、靶面到基片☆距离（ 150mm）,距离可调。
7 、6英寸three-position节流闸板阀品牌（ VAT 公司 ），半开状态可以调节阀门打开程度，从而控制抽速。
8 、溅射镀膜室使用机械泵＋分子泵（或冷凝泵）的配置，其中机械泵品牌（ 普发 scroll pump ），分子泵品牌（ 普发 ）抽速（ 500 l/s ）。
9 、溅射镀膜室的极限真空：5 x 10-10 torr (24 hours pumping following internal bakeout)，从大气恢复工作背景真空 7 × 10-4Pa ： 30～40 分钟（新设备〇充干燥氮气）。溅射镀膜室漏放率：关机 12 小时真空度≤ 5Pa 。
10 、磁控溅射靶射频源电源1台：品牌（ Seren IPS ）功率（ 300 W）、13.56MHz，可以切换到射频偏压工件台实现射频预清洗以及刻蚀；
11 、磁控溅射靶直流溅射电源 2 台，品牌（ TDK Lambda ）功率( 720 W, 600V, 1.2A DC)， 溅射功率均连续可ξ调，可以自动切换到所有三个靶枪实现直流溅射。
12 、采用3英寸靶溅射8英寸基底，整个基片薄膜厚度均匀性优于+/-5%，溅射∑ 重复性优于+/-3%。
14 、真空测量系统：采用全量程真空计品牌（ Inficon combination vacuum gauge）（from atmosphere to 5x10-10 Torr）测量系统真空压力
