ALLRESIST 光刻胶的专家
公司介绍：
Allresist公司于1992年10月6日成立，专门从事光刻工艺所需化学制剂的研发、生产和销售，包括制造集成电路时使用的各种光学光刻胶、电子束光刻抗蚀剂以及相关工艺中用到的化学制品。在光学光刻胶的研发方面，集合了柏∮林Fotochemische Werke Berlin 公司30年来的研究成果，有丰富的经验和悠久的传统。
北京汇德信科技有限公司与德国ALLRESIST公司合作，为国内外用户提供高品质的光刻胶。
德国公司是从事光◥刻用电子化学品研发、生产和销售的◢专业公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为↑您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束抗蚀剂，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶以及相关工艺中所需要的显影液、定影液、稀释剂、除胶剂、增附剂等◆化学试剂。
产品特点：
光刻胶种类齐全，包装规格灵活多样，交货时间短，适合各种规模的生产、和▲研究的需要。
性能稳定可靠，可以提供高水准的技术咨询服务，具有为客户开发、定制特殊复杂工艺
用光刻产品的能力。
