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                低温制样仪Ψ

                低温制样仪
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                • 低温制样仪
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                EMS 1250
                海德创业(北京)生物科技有限公司
                北京
                详细说明

                EMS1250低温制备(制样)系统

                 
                低温制样仪
                 
                什么是低温样品制备?
                 

                   在将体积较大的冰冻样本进行电镜扫描时,一般要使用低温扫描电镜。而扫描前制备样本时,采用常规方法制备生物样本时,样本有时会有破碎或者变形现象发生;此外还可能会有大量的可挥发物质丢失,这势必会影响X-Ray 微量分析。

                     对于上述缺点,EMS1250低温制样系统提供了很好的解决办法,并且我们还能进行液态样本的观察分析了,如乳状液和悬浮液,从前这是根本不可能的。低温样本在制备时,我们首先要尽可能的快速冷冻样本,这有助于降低样本形∮态学上的改变,对结构分析是非常重要的;并且也¤将样本里溶质的再分配降到最小。而这◣些都是影响X-Ray 微量分析结果的本质因素。

                     通过尽可能快速到达再结晶点,从而◥减小冰晶的尺寸,这是快速冷冻的目的。纯水的再结晶点温度在零下130°C,我们把样本保持在这个温度之下。快速冷冻常用的方法是将样本插入液氮之中,以“泥泞的”液氮形式存在于零下210°C。

                     对于冰冻样本,我们要把它们保存在-130°C(再结晶)以下,并且要防≡止其升华。因此,我们要在冰冻状态下维持样本在一个干净的不受污染的空间里。随后,冰冻样本使用㊣制样系统进行断裂、蚀刻、金碳包被,然后在扫描电镜》的冷场观察分析。

                     EMS 1250低温样本制备系统除了具备上诉所有功能外,并且具备适合各类型号扫描电子显微镜№的低温场和真空传递系统。

                     EMS1250 具备一个冷冻腔体和准备腔体。冷冻腔体制备超低温液氮。制备后的样本通过有保温转制的传递△机构转运到准备腔体,然后进行扫描电镜。准备腔有破碎样本的装置,样本在这里能够进行金或碳包被,且不需换头。双碳头也有表面蚀刻装置(使用放射辐射源或金属蒸镀)。这套低温样本★制备系统有两个可控的精确加热器、一个定时器。一个加热器位于准备腔内,另一个位于扫描电镜的冷场里。准备腔和电镜冷台的温度保持在零下160°C以下。

                     对于扫描电镜样本,避免污染是非常重要的∑,EMS 1250低温制备系统具备优秀的防护性能。使用洁净的无碳氢材料的涡轮增压分子泵系统,2级旋转真空泵;圆柱型设计的准备腔确保涡轮增压的高效及灵活使用腔体内机构。

                Features

                o        独立的低温样本制备系统

                o        涡轮增压分子泵,免除污染和碳氢化合物。

                o        传递机构采用真空阀门。

                o        减水、抗蚀、抗腐的液●氮腔体。

                o        圆柱型准备腔方便操作。

                o        低压冷溅射头有很高的重复性(金为标准)

                o        碳丝燃烧法蒸镀使用可控的加热器,蒸镀频度按钮。

                o        刀预冷装置

                o        探针预冷装置。

                o        SEM冷场具备温度和定时的升华加热器。

                o        液氮长期稳定。

                o        SEM阀门方便样本传递。

                o        微电子控制

                o        聚碳酸脂防护

                 
                 
                 
                 
                 
                 
                Specifications (Tranfer Unit with)
                冷场
                With Vacuum Gate Valve and Liquid Nitrogen Dewar 1 Litre Capacity
                Weight
                16Kg
                Total weight of system
                82Kg
                Sputter Coating
                22mm(Dia.)x0.1mm(T) Target (Gold fitted as standard)
                Timer
                0-4 mins
                Sputter Gauge
                0-50mA
                Carbon Coating
                *Deposition 0-10nm/Min Carbon String/Carbon Cord (With Integral Radiant Heater)
                Ammeter Gauge
                0-50 Amps
                Evaporate Button Outgas Control
                0-25 Amps
                Cooled Knife Assembly
                 
                Cooled Probe Assembly
                 
                Specimen Transfer Stub for Multipurpose Application
                (Special Stubs Available)
                Vacuum Gauge
                0-1 x 10-2 mbar
                High Vacuum Condition Indicator
                 
                Turbo Molecular Pump Unit
                Better than 1 x 10-5 mbar
                Preparation Stage Temperature
                Better than-160ºC
                Temperature Monitor and Control
                -200ºC to 0ºC
                Timer
                0-20 minutes
                Viewing Light Source
                Supply
                115V 60 Hz (6 Amp Max)
                230V 50 Hz (3 Amp Max)
                Services
                Argon (for Sputtering)
                Nominal 4 psi
                Nitrogen (for Sputtering)
                Nominal 4 psi (Argon can be used if only one gas is required)
                Vacuum Pump (Recommended)
                Complete with vacuum hose and oil mist filter
                135L/Min
                Size
                470mm (L) x 150mm (W) x 250mm (H)
                Weight
                23Kg
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