本仪器为全自动操作,可控制独立的真空泵。
性能特征 o 复合样本固定器 o 旋转且可倾斜样品台
o 全自动控制
o 低耗冷却系统,无需冷却样本及样品台
o 低压溅射
o 高质量镀层厚度(2nm 金膜).
o 精确的可重复性能
o 均匀沉积厚度(20nm或20埃)
o 微电子控制
o 聚碳酸脂安全壳体
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性能参数: 1.仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 3.安全钟罩:聚碳酸酯 4.重量:18公斤 5.靶:60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金靶为标准靶面) 6.样品台直径为60 mm,靶面距在25mm-45mm之间可调 7.真空范围:ATM-1x10-4 mbar 8.沉积电流范围:0-50mA 9.沉积速率:0-25nm/分 10.溅射时间:0-4 分钟 11.预设置针阀:控制氩 12.电源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump) 定购说明:
名称:EMS550离子溅射镀膜机
名称:EMS500离子溅射镀膜机
EMS500为EMS550的的手动型号(无旋〓转样品台),其它参数均同。 |