摘要：本实用新型公开了一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台，属于材料制备加工领域。本实用新型改进了加热式沉积台的设计，在沉积台台面的内■表面镀覆了一层100nm的氧化铬薄膜，利用氧化铬0.8的黑体系数提高了沉积台台面接收热辐射的效率。同时，对于密封在沉积台内部的加热体，其绝缘体支撑件被设计成陶瓷柱阵列，在不影响支撑功能的同时，提高了加热体的散热效率。这些改进使得这种新型的高温加热沉积台的加热效率与稳定性得以大幅提高，并可以在700℃～1000℃温度段内持续稳定工作，填补了加热式沉积台在高温段的技术缺口。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京泰科诺科技有限公司;
- 发明人陈良贤;彭建;施戈;
- 地址102212 北京市昌平区崔村镇西辛峰村南6区1号
- 申请号CN201320699640.7
- 申请时间2013年11月06日
- 申请公布号CN203625466U
- 申请公布时间2014年06月04日
- 分类号C23C16/46(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;
