摘要：本实用新型公开一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置，包括一气流通道，该通道一端为石墨烯化学气相沉积中的混合气体入口，在气流通道外侧装有若干组半导体致冷片，各☉致冷片通电联接形成电学低温气流冷阱并吸附杂质气体，气流通道另一端为纯化※气体出口。本实用新型采用半导体致冷器件，通过低温吸附的方法，除去混合气源中的杂质气体，结构简单，使用方便，易于维护。
- 专利类型实用新型
- 申请人厦门烯成新材料科技有限公司;
- 发明人刘长江;连榕;
- 地址361000 福建省厦门市火№炬高新区创业园伟业楼南楼S301C室
- 申请号CN201320211860.0
- 申请时间2013年04月24日
- 申请公布号CN203264325U
- 申卐请公布时间2013年11月06日
- 分类号B01D8/00(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;
