摘要：本发明公开了一种回转弹性体研磨抛光方法。所述研磨抛光方法利用回转弹性体研磨抛ぷ光设备对工件进行研磨抛光；所述研磨抛光方法包括如下步骤：S1、将回转弹性体研磨抛光装置〗安装在主轴箱下部主轴头上；将待加工工件安装在回转工作台上，使得回转弹性体⌒ 与待加工工件的上表面接触，并在接触处形成具有一定压力的研抛接■触区域；S2、回转弹性体与回转弹性体研磨抛光装置的回转运动、滑〗台的前后移动，主轴箱的上下左右移动，使研磨元◣件或抛光元件与待加工工件之间形成复合研抛切削运动与进给运动；S3、对待加工工件进行研磨抛光，研磨╳抛光过程中，在研抛接触区域注入研磨抛光液。本发明具有高研抛速度、研磨磨粒固结、研抛轨迹复杂、加工过程可控等特点。
- 专利类型发明专利
- 申请人湖南大学;
- 发明人金滩;卢安舸;郭宗福;吴耀;
- 地址410082 湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号
- 申请号CN201610013429.3
- 申请时间2016年01月08日
- 申请公▽布号CN105643428A
- 申请公布时间2016年06月08日
- 分类号B24B37/00(2012.01)I;B24B37/11(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I;B24B41/02(2006.01)I;B24B41/04(2006.01)I;B24B47/20(2006.01)I;
