摘要：一种高利用率的平面磁控溅射靶，包括靶材和磁体组件，其中靶材固定，磁体组件设有驱动机构带动可相对于靶材运动。当磁体组件从平面靶宽度方向往复不己时，相对应地磁体组件的磁体在靶材表面所产生的“栱型”磁场在靶材表面来回移动扫描，在真空溅射镀膜时，气体辉光放电√強烈的区域在靶面上来回扫描，在整个靶面上大部分面积都参与了溅射刻蚀，导致刻蚀区变宽而相对平坦，不会产生局部固定的“V”型刻蚀沟，大大地提高了靶材利用率。同时，强烈气体辉电放电区在靶面上大范围移动，相对≡发热区扩大，热量不集中在某个固定区域，热交换面积大了，冷却水带走热量更容易和充分，靶面温度有效地降低，辐射热大幅度減少，有利于实现低温沉积。
- 专利类型发明专利
- 申请人东莞市汇成真空科技有限公司;
- 发明人李志荣;李志方;罗志明;李秋霞;
- 地址523820 广东省东莞市大岭山镇颜屋村第四工业区
- 申请号CN201110033285.5
- 申请时间2011年01月30日
- 申请公布号CN102071403A
- 申请公布时间2011年05月25日
- 分类号C23C14/35(2006.01)I;
