摘要：本发明涉及一种采用两●步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层的制备方法，首先采用磁控溅射的方法在Nb基超高温合金表面沉积不同厚度的Zr膜，然后采用Si-Y扩散共渗的方法在沉积Zr膜后的试样表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层。本发明解决了Nb基多元超高温合金高温抗性能差的技术难题，能够获得均匀、致密，Zr含量可控且与基体结合紧密的Zr-Y改性硅化物渗层。采用1250℃恒温氧化实验进行检测，共渗后试〓样经5～200h恒温氧化后的氧化膜致密，少见脱落，表明本发▲明所提供的渗层具有优异的高温抗氧化性能。本发明所制备的渗层均匀、致密，Zr含量可控且与基体结合紧密，同时↑具有操作方便、成本低廉等一系列优点，适于生产和应用。
- 专利类型发明专利
- 申请人西北工业大学;
- 发明人郭喜平;李轩;乔彦强;
- 地址710072 陕西省西安市友谊西路127号
- 申请号CN201410497699.7
- 申请时间2014年09月25日
- 申请公布号CN104313541A
- 申请公布时间2015年01月28日
- 分类号C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C10/44(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I;
