摘要：本发明涉及●一种去除金属表面放射性污染的电解去污方法。该方◢法将待去污部件接电源阳极，去污部件接电源阴极，向去污装置内加入电解液后进行电解去污。所采用的电解液配方为质量ξ百分比为3％～10％的HNO3，质量百分比为5％～20％的NaNO3，其余为水。电解时电流密度为0.1～0.6A/cm2，电解★温度为20～50℃。本方法可广泛用于核设施金属表面放射性污染的电解去污，使核设施退役时产生的大量金属废物得▅以降级或再循环、再利用。
- 专利类型发明专利
- 申请人中国辐射防护研究院;
- 发明人董毅漫;刘文仓;任宪文;
- 地址030006山西∞省太原市学府街270号
- 申请号CN200510135004.1
- 申请时间2005年12月23日
- 申请公布号CN100577893C
- 申请公布时ζ 间2010年01月06日
- 分类号C25F1/00(2006.01)I;G21F9/00(2006.01)I;
