高真空电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下，采用电子束轰击△材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。
可用于生产、科学实验及教学，可◆根据用户要求专门订制。
可根据用户使用要■求，选配＠石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动々控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层№厚度的监控功能等，从而提高了工◥作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。
设备特点
设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点，配备 E 型电→子束蒸发源和电阻蒸发源。PID自动控温，具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。
可根据用户ㄨ使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式,通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制,包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。
真空性能
极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa
设备总体漏♀放率：关机12小时，≤10Pa
恢复工作真空时间短，大气至7×10-4Pa≤30分钟；
设备构成
E 型电子束蒸发枪、电阻热□蒸发源组件（可选配）、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组←、旋转基∮片加热台、工作气路、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成№。
可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。
热蒸发源种类↓及配置
| 项目 | 参数 | 备注 |
|---|---|---|
| E 型电子束蒸发系统 | 1套 | |
| 功率 | 6kW～10kW | 其它功率(可根据用户要▲求选配） |
| 坩埚 | 1～8只 | 可根据用户要求选配 |
| 电阻热蒸发源组件 | 1～4套 | （可根据用户要』求配装） |
电阻热∏蒸发源种类
-钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件
-石英舟⌒ 热蒸发源组件
-钨极或钨▓蓝热蒸发源组件
-钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）
-束源∮炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）
操作方式
手动、半自动
