产品简介：
所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据，要求对加载到样品上的载荷有精确的控制。KLA新一代 G200 型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置，从而保证测量的精确度，独特的设计避免了横向位移的影响。 KLA新一代 G200型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性，包括方便的◥测试到整个样品台，精确的样品定位，方便的确定样品位置和测试区域，简便的样品高度调整，以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的升级带来极大的方便。
特点←和优势
- 广受赞誉的高速测试选项可以和G200 型纳米压痕仪配合使用, 包括DCMII 和 XP 模块以及样品↑台
- 快速进行面积函数和框架刚度校对
- 精确和可重复的结果, 完全符合 ISO14577 标准
- 通过电磁驱动, 可在无与伦比的范围∞内连续调整加载力和位移
- 结构优化, 适合传统测试或全新应用
- 模块化选项, 适合划痕测试, 高温◥测试和动态测试
- 强大的软件功能, 包括对试验进行实时控制, 简化了的特殊测试方法的开发
应用：
- 半导体器件, 薄膜
- 硬质涂层, DLC薄膜
- 复合材料, 光纤, 聚⌒合物材料
- 金属材料, 陶瓷材料
- 无铅焊料
- 生物材料, 生物及仿生组织等等
功能：
- 增强的载荷加载√系统
- 增强的纳米划痕测试
- 强化的微摩擦磨损测试功能
- 粘弹性材料性能测量功能
- 恒应变速率测试/可变应变★速率测试
- 连续刚度测量功能
- 增强的原位ξ纳米力学测试功能
- C高精度成像定位功能
- 接触刚度〓成像功能
主要指标：
| 位移测量方式 | 电容位移传感器 |
| 压ζ 头总的位移范围 | ≥ 1.5 mm |
| Max.压痕深度 | > 500 um |
| 位移分辨率 | 0.01 nm |
| 加载模式 | 电磁力 |
| Max.载荷 (标配) | > 500 mN |
| 载荷分辨率 | 50 nN |
| 高载荷选件 | 10 N/50 nN |
| DCM 压痕选件 | 10 mN/1 nN |
| 框架刚度 | ≥ 5 x 106 N/m |
| 纳米样品台 | 200 mm X 200 mm |
| 定位精度 | 1 um |
| 定位控制模式 | 全自动遥控 |
| 总的放大倍率 | 250 倍和 1000 倍 |
选项：
- Max.划痕力：1000mN
- Max.划擦深度：40um
- Max.磨损面积：400mm2
- Max.划痕速度：100um/s
- 定量测试薄膜和基底的结合强度
- 表面抗「划擦能力
- 连续循环划痕摩擦
- 压头保护※功能
- 划痕面积和体积
- 实现线性变载或恒定载荷模式下划痕测试
- 连续刚度测试功能
- 材料的粘弹性测试功能
- 薄膜测试功能ζ
- 功能-提供三维成像功能
- 功能-提供四维成像功能
- 自定义测试功能
- 数据极速采集功能
- 双子星多维度磨损附件
- 测试附件
- 高精度成像附件
- 500°C 加温附件
