PLUTO-T具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。完全彻▃底地清除样品表面的有机污染物。
产品特点：
1.具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。
2.对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。
3.完全彻底地清除样品表面的有机污染物。
4.定时处理、快速处理、清洗效】率高。
5.绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。
6.在常∞温条件下进行超清洗，对样品非破坏性处理。
技术参数:
1.真空腔规ζ 格: 不锈钢腔体,直径150mm*(深)200mm
2.电极：平板气浴电极，材质6061-T6铝合金
3.电极尺寸：100*170mm
4.频率：40KHz (可选配13.56MHz射频等离子源)
5.功率：0-300W连续可调，精度1W,可□在设备运行中随时调整参数
6.气体控制：针式气体流量阀， 0-300ml 2路气体
7. 真空计：电偶式真空计，精度：0.01mTor
8.控制方式：4.3寸工业控制触摸屏，全手动控制和全自动控制两种控制方式
控制软件功能：界面显示实时工作状态〓
应用领域：
半¤导体元件清洗：光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。
光学镜╳片清洗：清洗光学镜片、电子显微镜片等多种╲镜片和载片。
去除氧化物√：移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属№材料表面的氧化物。
芯片清洗：清洗生物芯片、微流卐控芯片、沉积凝胶的基片。
表面修饰：高分子材料表面的修饰。
封装领域：封装领域中的清洗和改性，增强〗其粘附性，适用于直接封装及粘和。
改善粘合力：改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
涂覆镀膜：对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改【性，使其活化，增强表面◤粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀 膜质量。
牙科领域：对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性□和相容性。
医用领域：修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性及对医疗器械的消毒和杀菌。
