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1200℃低真空CVD系统是由滑动式管式实验电炉，混气系统，真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃，通过滑动炉体来实现快速的升降温；配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过三路高精度质量流量计控制不同ω 气体。是为石墨烯生长、研发的专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。
