MYCRO原装进口美国恩科优N&Q系列光刻机（Mask Aligner)，是全球领先的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验，全球售出1000多套设备，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波△段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。
品牌：恩科优（N&Q）
产地：美国
恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的首选；
二、技术参数：
1、芯片尺寸：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎」片（支持对◥不规则碎片的特殊卡盘设计）；
2、曝光波长：350nm-450nm（其它波长可选配）；
3、汞灯功率：350W/500W（其它功率可选█配）；
4、分辨率：优于0.5um；
5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；
6、出射光⊙强范围：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；
7、支持恒定光强或╱恒定功率模式；
8、曝光时间：0.1~999.9s；
9、对准精度：双高清彩色CCD +双高清彩色监视器，对准〒精度可达到0.4微米内；
10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)；
11、光强均匀性Uniformity：
<±1% over 2”区域；
<±2% over 4”区域；
<±3% over 6”区域；
12、双面光刻：具备背面№红外对准（IR BSA）和光学背面对准（OBS BSA），双面对准精度≤2μm；
13、电源：高灵敏度光强可控◆电源。
可选型号：
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、产品特点：
可选支持单面对准和双面对准设计；
高清晰彩√色双CCD镜头采用最先进的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修♀正的CCD镜头设计）；双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供★用户灵活选择）；
高清彩色双显示屏；
全新气动轴承导轨设计，高精准，低磨损，无▃需售后维护的；
具有自动执行楔形误∮差补偿，并在找平后自动定位功能；
操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面々；
操控手柄调控模式的独特设计；
采用LED穿透物镜照明技△术，具有超强对准亮度；
采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；
抗衍射反射的高效光学光⊙路设计；
带安全保护功能的温度︼和气流传感器；
全景准直透镜光线〒偏差半角: <1.84度；
设备稳定性，耐用性超高；
